社会与法

日韩贸易摩擦升级,国产光刻胶迎来春天?

9月19日,光刻胶概念成为a股市场的热门话题。

自7月以来,日韩贸易战持续升级。9月3日,当a股光致抗蚀剂板块全面爆发时,韩国再次打出了“反击”牌。

就在昨天(9月18日),韩国工业和贸易部正式将日本从优惠贸易待遇的“白名单”中剔除。

日韩贸易关系的拉锯战再次升级,导致今日a股光刻胶板块全面上涨。

今天,在光致抗蚀剂板块,截至收盘,姜华位(603078。荣大光(300576)。深圳)和景瑞(300655。深交所)关闭了交易限额。南达光电、广信材料、飞凯材料等股票纷纷上涨。

另一方面,氢氟酸行业也表现良好,中国鑫氟材料有限公司、三美股份、聚氟、光华科技、新霓虹都有不同程度的上涨。

从7月4日开始,日本将限制向韩国出口用于电视和智能手机中有机发光二极管显示组件的“氟聚酰亚胺”、“光刻胶”和半导体制造中必须使用的“高纯氟化氢”。

根据韩国贸易协会(Korea Trade Association)的一份报告,就氟聚酰亚胺、光刻胶和高纯氟化氢而言,韩国半导体和显示产业对日本的依赖度分别为91.9%、43.9%和93.7%。

在这一前提下,韩国寻求物质替代势在必行。

早些时候,韩国半导体和显示技术协会负责人朴槿惠(ParkJea-gun)表示,三星电子和SK Hynix正寻求从中国购买更多材料。

他补充说,这还将包括去日本以外的国家寻找剩余企业并向它们购买。

光致抗蚀剂的前景如何?随着光刻胶市场需求的逐年增长,2018年全球半导体光刻胶销售额为12.97亿美元。

随着对功率半导体、传感器、存储器和其他下游应用需求的扩大,光致抗蚀剂市场将在未来继续扩大。

(来源:盛港证券)光刻是芯片制造中的一个重要过程。光刻胶是实现光刻的关键材料,是涂覆在半导体衬底上的光敏剂,约占芯片制造成本的7%。

日本公司占据了该领域全球市场的80%以上。

由于技术壁垒高,光刻胶具有纯度要求高、生产工艺复杂、生产测试设备投资大、技术积累周期长等特点。这是一个资本和技术密集型产业。

因此,目前光刻胶生产主要由日本、欧洲和美国公司垄断。

前五大制造商占全球光刻胶市场的87%。

日本JSR、东京华英、日本新悦和富士电子的总市场份额达到72%。

(来源:国海证券)数据显示,目前中国光致抗蚀剂市场规模约为60亿元,本地光致抗蚀剂增长迅速。

2017年,中国光致抗蚀剂行业产量达到75,600吨,比2016年增长29,000吨。其中,中国本土光致抗蚀剂行业产量为44100吨,与需求79900吨相差甚远,表明中国的供应能力仍有待提高。

得益于中国平板显示器和半导体产业的发展,预计2022年中国光刻胶市场需求可能超过272,000吨。

迄今为止,日韩之间的拉锯战仍在升级。在大力支持电子材料产业发展的过程中,韩国有利于加快中国国内光刻胶替代的进程,与韩国企业合作的国内相关公司有望从中受益。

光致抗蚀剂行业相关公司国源证券研究报告显示,尽管面临技术挑战,但这也意味着进口替代空非常大。随着全球集成电路制造能力向内地的快速转移,未来对上游电子化学品的需求将呈现快速增长趋势。

在新的国际形势下,独立可控的需求将推动一批国内制造商的崛起。在产业政策和资金的支持下,国内上游物质端的发展必将加快。有了充足的产业资金,有利于吸引高端人才和引进先进设备,也将加快材料端的本地化。目前,集成电路级光刻胶取得了一定突破。高端光刻胶还有很长的路要走。建议关注已实现大规模生产和下游进口的光刻胶电子化学品公司,重点关注业绩稳定、可持续的企业。

从应用领域看,光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。从应用领域来看,光致抗蚀剂可以分为半导体光致抗蚀剂、面板光致抗蚀剂和印刷电路板光致抗蚀剂。

国内光致抗蚀剂制造商主要生产印刷电路板光致抗蚀剂,而面板光致抗蚀剂和半导体光致抗蚀剂的生产规模相对较小。

光致抗蚀剂是半导体材料中技术壁垒最高的材料之一,目前我国只有景瑞有限公司、北京柯华微电子、南达光电、荣达光敏和上海信阳五家企业从事半导体光致抗蚀剂的生产和研发。

盛港证券从技术层面给出以下投资建议:印刷电路板光刻胶:国内替代最快,关注飞凯材料(高端湿膜光刻胶领域已被下游厂商验证);面板光刻胶:进展相对较快,关注永泰技术(CF光刻胶已通过华星光电验证);半导体光刻胶:该技术与国外先进技术相比有很大差距。只有g线和I线的产品进入下游供应链。注意:北京柯华(目前KrF(248纳米)光刻胶已通过SMIC国际认证,ArF(193纳米)光刻胶正在积极研发中。

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